| 发明名称 | 溅射装置 | ||
| 摘要 | 提供一种采用AC电源的溅射装置，该装置能够不依赖于溅射装置的设置场所与交流电源的设置场所之间的距离，高精度地供电。在真空腔(11)内设置一对靶(41a、41b)和按照规定的频率交替改变极性地给该对靶施加电压的AC电源(E)。该AC电源(E)的结构分为能供电的供电部(6)和振荡部(7)，振荡部(7)具有与从该供电部引出的电力线连接的振荡用开关电路(72)。该振荡部与各靶通过母线(8)连接。 | ||
| 申请公布号 | CN101370958B | 申请公布日期 | 2010.09.15 |
| 申请号 | CN200780002208.5 | 申请日期 | 2007.01.11 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 小林大士;清田淳也;堀下芳邦;依田英德;佐藤重光;中岛利夫 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人 | 齐永红 |
| 主权项 | 一种溅射装置，其特征在于包括在真空腔内设置的一对靶和按照规定的频率交替改变极性地给该对靶施加电压的交流电源，该交流电源的结构分为能供电的供电部和具有与从该供电部引出的电力线连接的振荡用开关电路的振荡部，该振荡部与各个靶通过母线连接。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||