曝光方法及曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，是使用相对于物体M并排设置的多个投影光学模块PLa～PLg将所述物体的投影像转印到感光基板P上的曝光装置EX，具备：调整机构14，其使所述投影像向所述感光基板的转印特性变化；存储机构80，其存储有表示每个所述投影光学模块的所述转印特性的转印特性信息；连接信息取得机构，其取得表示与所述物体的投影像中的在所述感光基板上被接上的第一投影像和第二投影像的连接位置对应的连接位置信息；控制机构CONT，其以所述转印特性信息及所述连接位置信息为基础，算出与所述连接位置的所述第一投影像和所述第二投影像的所述转印特性的特性差对应的所述调整机构的调整值，基于该调整值使所述调整机构动作，使相对于所述第一投影像及所述第二投影像的至少一方的所述转印特性变化。

主权项

一种曝光方法，其特征在于，包括：特性信息取得工序，取得使用并排设置的多个投影光学模块在感光基板上形成的转印图案的转印特性信息；连接信息取得工序，取得表示与多个所述转印图案中的在所述感光基板上被接上的第一转印图案及第二转印图案的连接部对应的所述投影光学模块的连接部信息；导出工序，以所述转印特性信息及所述连接部信息为基础导出修正动作量，其中该修正动作量是使所述转印图案的转印特性变化的特性调整机构的动作量，并用于修正所述连接部的所述第一转印图案及所述第二转印图案的所述转印特性的特性差；转印工序，基于所述修正动作量使所述特性调整机构动作，在所述感光基板上依次形成所述第一转印图案及所述第二转印图案。