具有多掩模的光刻机硅片台系统

摘要

具有多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。掩模台系统包括掩模台基座、掩模运动台和掩模承载台，所述的掩模台基座的长边为Y方向，短边为X方向；掩模运动台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台在掩模运动台上沿X方向作直线运动；在所述的掩模承载台上沿X方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。本实用新型对现有光刻机掩模台系统改进后，更换掩模后可以减少一次对准的时间，此外，在曝光过程中还节省了一次步进的时间，降低了成本，进而提高了光刻机的曝光效率。

主权项

具有多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台(1)，至少一个硅片台，一组光学透镜(4)和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座(5)、掩模运动台(6)和掩模承载台(7)，所述的掩模台基座(5)的长边为Y方向，短边为X方向，掩模运动台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动，掩模承载台(7)在掩模运动台(6)上沿X方向作直线运动；在所述的掩模承载台上沿X方向至少设置两个掩模版安装槽，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。