| 发明名称 | 成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 | ||
| 摘要 | 成像光学系统(7)具有多个镜(M1至M8)。这些镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)。镜(M6、M7、M8)的至少一个被遮拦，且由此具有供成像光(15)经过的通孔(21)。在像场(8)之前的光路中的第四最后镜(M5)没有被遮拦，且利用其光学有效反射表面的外边缘(22)提供成像光学系统(7)的光瞳平面中的中心遮蔽。第四最后镜(M5)和最后镜(M8)之间的距离为物场(4)和像场(8)之间的距离的至少10％，最接近像平面(9)的中间像平面(23)设置于最后镜(M8)和像平面(9)之间。成像光学系统(7)具有0.9的数值孔径。这些措施不需所有必须同时实现，且导致了成像光学系统具有改善的成像性能和/或减少的生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101836164A | 申请公布日期 | 2010.09.15 |
| 申请号 | CN200880113375.1 | 申请日期 | 2008.10.02 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | 汉斯-于尔根·曼 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B17/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)的至少一个包括供成像光(15)经过的通孔(21)，其特征在于所述成像光学系统(7)包括至少六个镜(M1至M8；M1至M6)，在像场(8)之前的在物场(4)和像场(8)之间的光路中第四最后镜(M5；M3)不包括通孔，且利用围绕所述第四最后镜(M5；M3)的光学有效表面的外边缘(22)提供成像光学系统(7)的光瞳平面(17；25，26)中的中心遮蔽。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||