发明名称 |
制备高纯度、致密的Ti<sub>3</sub>SiC<sub>2</sub>块体材料的方法 |
摘要 |
制备高纯度、致密的Ti3SiC2块体材料的方法,它涉及Ti、Si、C陶瓷块体的制备方法。本发明解决了目前制备Ti3SiC2块体材料都存在制备温度高、反应时间、特别是现有方法难以制备大尺寸材料的问题。本发明制备高纯度、致密的Ti3SiC2块体材料的方法按如下步骤进行:一、混合;二、加压、点火;三、加压、冷却;即得到Ti3SiC2块体。本发明具有工艺成本低、无需长时间高温加热、可制备直径达240mm的块体材料。 |
申请公布号 |
CN101186296B |
申请公布日期 |
2010.09.15 |
申请号 |
CN200710144802.X |
申请日期 |
2007.12.12 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
赫晓东;朱春城;柏跃磊 |
分类号 |
C01B31/30(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/30(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 |
代理人 |
荣玲 |
主权项 |
制备高纯度、致密的Ti3SiC2块体材料的方法,其特征在于制备高纯度、致密的Ti3SiC2块体材料的方法按如下步骤进行:一、按照摩尔比将2.5~3.5摩尔的钛粉、1-x~1.5-x摩尔的硅粉、x摩尔的碳化硅粉和2-x摩尔的碳粉混合,其中0.2<x<0.5,再加入无水乙醇湿混5~30小时,自然晾干;二、向混合物料施加15~45MPa的压力10~15s,压成预制坯,将预制坯放入钢制模具中,钢制模具与预制坯之间的空隙用石英砂填充,在预制坯的上表面点火,燃烧反应开始;三、燃烧结束后1~5s开始施加150~500MPa的压力,保压10~15s,再将反应产物埋入石英砂冷却至室温:即得到Ti3SiC2块体。 |
地址 |
150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |