发明名称 |
用于改善有机电子元件中空穴注入的新型材料及该材料的应用 |
摘要 |
本发明涉及用于空穴传输层的p型掺杂的新型材料,如式(1)给出的噻唑啉化合物,其中通过所述材料的较高蒸发温度和/或玻璃形成特性来克服现有技术的缺点,尤其是已知p型掺杂材料的较差可蒸发性。 |
申请公布号 |
CN101273480B |
申请公布日期 |
2010.09.15 |
申请号 |
CN200680032360.3 |
申请日期 |
2006.08.28 |
申请人 |
奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
发明人 |
安德烈亚斯·卡尼茨 |
分类号 |
H01L51/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
顾晋伟;刘继富 |
主权项 |
1.一种用于掺杂有机半导体元件的空穴传输层的材料,其特征在于,在所述材料中,受主特性与高于150℃的蒸发温度和/或玻璃形成特性结合存在,所述材料包含下面结构1的杂环苯醌二甲烷衍生物<img file="FSB00000104580300011.GIF" wi="614" he="754" />其中,取代基R<sup>1</sup>至R<sup>5</sup>可以互相独立地选择,并且代表氢、氯、氟、硝基和/或氰基,或者取代基R<sup>1</sup>至R<sup>5</sup>互相独立地被苯基取代基和/或可形成稠合的芳香族取代基的结构单元替代,其在周围又可以除了氢以外还带有氯和/或氟取代基。 |
地址 |
德国雷根斯堡 |