发明名称 解决大规模集成电路引线框架共面性的装置
摘要 本发明公开了一种解决大规模集成电路引线框架共面性的装置。包含下模和与下模相对应的上模,其特征在于:在上模装有独立供气的气负装置,所述气负装置包括上下连通的腔体,安装在腔体下面的平整头,安装在腔体上面的气缸盖,在平整头与气缸盖之间设有气室,所述气室与进气通道相连通,所述进气通道前面装有调压阀及相互串连的气压表;所述平整头的下端面与模具的整平头位置相重合。本发明采用气负原理,在原有的模具上加装一套独立的供气装置,将平整头浮在卸料板上,用压缩空气通过调压压住平整头,使它的力不受冲床的力所影响,直接由稳定的气压来掌控,达到引线框架平整的目的。
申请公布号 CN101562167B 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200910300758.6 申请日期 2009.03.09
申请人 孙冠鸣 发明人 孙冠鸣
分类号 H01L23/495(2006.01)I 主分类号 H01L23/495(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 林宝堂
主权项 一种解决大规模集成电路引线框架共面性的装置,包含下模和与下模相对应的上模,其特征在于:在上模装有独立供气的气负装置,所述气负装置由上下连通的腔体,安装在腔体下面的平整头(4),安装在腔体上面的气缸盖(5),在平整头(4)与气缸盖(5)之间设有气室,所述气室与进气通道(8)相连通,所述进气通道(8)前面装有调压器(11)及相互连通的气压表(10);所述平整头(4)的下端面与模具卸料板上的整平头位置相重合。
地址 315400 浙江省余姚市经济开发区A区谭家岭东路51号