发明名称 |
高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法 |
摘要 |
高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法,本发明解决了目前铝合金涂层的太阳吸收率、发射率、结合力等达不到航空、航天、装饰等领域要求的问题。本发明的步骤如下:将清洗后的铝合金置于不锈钢电解槽中作为阳极,不锈钢电解槽作为阴极,采用脉冲微弧氧化电源供电,电流密度控制在0.5~30A/dm2,正向电压240~1000V,电源频率50~3000Hz,占空比10~50%,通过冷却循环水控制电解液的温度不超过30℃,电解液的pH值控制在8~12之间,微弧氧化反应5~180min,即得到陶瓷涂层。本发明方法降低了成本、提高了产品性能。本发明在铝合金表面获太阳吸收率大于0.90,发射率大于0.80的高吸收高发射陶瓷涂层,同时这种涂层具有高硬度(大于1000Hv)、与基体结合力好等优点。 |
申请公布号 |
CN101139729B |
申请公布日期 |
2010.09.15 |
申请号 |
CN200710072414.5 |
申请日期 |
2007.06.27 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
吴晓宏;秦伟;崔博;姜兆华 |
分类号 |
C25D11/04(2006.01)I |
主分类号 |
C25D11/04(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 |
代理人 |
韩末洙 |
主权项 |
一种高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法,其特征在于该方法的步骤如下:先用丙酮或水清洗铝合金表面,然后将清洗后铝合金置于不锈钢电解槽中作为阳极,不锈钢电解槽作为阴极,采用脉冲微弧氧化电源供电,电流密度控制在0.5~30A/dm2,正向电压240~1000V,电源频率50~3000Hz,占空比10~50%,通过冷却循环水控制电解液的温度不超过30℃,电解液的pH值控制在8~12之间,微弧氧化反应5~180min,即可在铝合金表面原位生长一层高太阳吸收率高发射率陶瓷涂层;其中每升电解液里含有0.5~20g的磷酸二氢钾、0.5~20g的亚铁氰化钾和0.5~20g的钨酸钠。 |
地址 |
150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |