真空镀膜装置及镀膜方法

摘要

本发明揭示一种真空镀膜装置，其包括：一阴极靶材、多个阳极、一运送装置、一脉冲电弧放电装置、以及一脉冲激光装置。运送装置用以放置及移动阳极，使每一阳极依序经过一可操作位置。脉冲电弧放电装置电性连接阴极靶材与位于可操作位置的阳极，用以在一真空腔体内产生等离子来进行镀膜。脉冲激光装置设置于真空腔体外，用以提供一脉冲激光束至阴极靶材表面，以作为一等离子触发器。本发明亦揭示一种镀膜方法，适用于上述真空镀膜装置。

主权项

一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：一阴极靶材；多个阳极；一运送装置，用以放置及移动该多个阳极，使每一阳极依序经过一可操作位置；一脉冲电弧放电装置，电性连接该阴极靶材与位于该可操作位置的该阳极，用以在该一真空腔体内产生等离子来进行镀膜；以及一脉冲激光装置，设置于该真空腔体外，用以提供一脉冲激光束至该阴极靶材表面，以作为一等离子触发器。