| 发明名称 | 液压转印印刷用基膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种液压转印印刷用基膜，其为膜厚20～50μm的液压转印印刷用聚乙烯醇系薄膜，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(％)分别为3％以下。因此，该液压转印印刷用基膜具有良好的图案印刷适性，作为液压转印印刷用的基膜非常有用。 | ||
| 申请公布号 | CN101835628A | 申请公布日期 | 2010.09.15 |
| 申请号 | CN200880112422.0 | 申请日期 | 2008.12.02 |
| 申请人 | 日本合成化学工业株式会社 | 发明人 | 水谷知由 |
| 分类号 | B44C1/175(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I | 主分类号 | B44C1/175(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种液压转印印刷用基膜，其为膜厚20～50μm的液压转印印刷用聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，相对于薄膜的宽度方向，距一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S1)及距另一侧端部在总宽度的30％以内的区域(S2)的薄膜表面的挠曲率(T)(％)分别为3％以下。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||