曝光方法及曝光装置、以及器件制造方法

摘要

通过组合由照射装置(91)进行的对可动光学元件(90)的非曝光光照射所产生的光学系统(PLL)的光学特性调整、以及通过光学特性调整装置使光学元件(90)移动所进行之光学系统(PLL)的光学特性调整，来修正起因于例如以偏离光轴的位置为中心光学元件以偏离光轴的位置为中心的温度分布的光学系统的光学特性变动。另外，为了在偶极(dipole)照明条件下等，将光瞳(PP1、PP2、PP3)附近的光学元件的非旋转对称的温度分布所导致之光学系统的光学特性，设成由光学特性调整装置容易修正的光学特性，而通过照射装置(91A)对光学元件(111)照射非曝光光来使该光学元件(111)成为旋转对称的温度分布。由此，可有效地修正因吸收照明光所导致的光学系统的光学特性变动。

主权项

一种曝光方法，经由光学系统利用第1能量束使物体曝光，在上述物体上形成规定的图案，其特征在于包括：照射步骤，为了调整上述光学系统的光学特性，对构成上述光学系统至少一部分的至少一个可动光学元件，照射与上述第1能量束不同波长区域的第2能量束；以及修正步骤，移动包含上述第2能量束所照射的可动光学元件的至少一个可动光学元件，来调整上述光学系统的光学特性；作为上述光学系统，使用在包含上述物体侧端部与其相反侧端部的多个位置，上述第1能量束通过偏离了光轴的区域的光学系统。