| 主权项 |
一种光罩基板，其包含：一光发射基底，其边长大于500mm；一包括一光遮罩膜之膜，其形成于该光发射基底之一主表面之一区域上，其中该区域包括除了距离该光发射基底之边缘宽度小于3mm之一周边部分外之该主表面，透过防止该膜被剥离而避免颗粒产生；及一形成于包括该膜与该周边部分在内之该整个主表面上之保护膜；其中该光遮罩膜利用雷射蚀刻形成图案。如申请专利范围第1项所述之光罩基板，其中该光遮罩膜厚度大于50 nm。一种制造一光罩基板之方法，其包括该等步骤：形成一包括一光遮罩膜之膜于一基底之一主表面之一区域上，该基底之主表面之一边长大于150mm，其中该区域包括除了距离该基底之一边缘宽度小于3mm之一周边部分外之该整个主表面，透过防止该膜被剥离而避免颗粒产生；及于该包括该膜与该周边部分在内之该整个主表面上涂敷一保护膜，其中膜之形成包括于该周边部分由一框架形支承元件遮蔽之情形下实施溅镀之一步骤，在该周边部分中不形成该膜；利用雷射蚀刻在该光遮罩膜形成图案。一种根据申请专利范围第1项之一光罩基板所制造之光罩。 |
