| 主权项 |
一种彩色滤光片之制造方法，系包含下列步骤：提供一基板；设置一薄膜电晶体阵列于该基板上，其中该薄膜电晶体阵列系包含复数个薄膜电晶体；形成一绝缘层覆盖于该薄膜电晶体阵列上；移除部份该绝缘层，用以降低位于该些薄膜电晶体间扫描线区域的该绝缘层厚度；设置一图案化遮光层覆盖于该绝缘层上；形成一彩色滤光层于该绝缘层上且该图案化遮光层围绕该彩色滤光层；以及形成一透明导电层于该彩色滤光层上。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中在移除位于该薄膜电晶体阵列之扫描线区域的部份该绝缘层时，更包含同时移除部分该绝缘层以形成该薄膜电晶体阵列之该些薄膜电晶体的一接触窗。如申请专利范围第2项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层系暴露出该接触窗。如申请专利范围第2项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该接触窗系设置于该薄膜电晶体阵列之讯号线一侧且偏离该薄膜电晶体阵列之扫描线一侧。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层为复数个条状图案。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层系包含一矩阵状。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层系包含一树脂材料。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层系包含一金属铬。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该图案化遮光层系包含一氧化铬。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该透明导电层系包含氧化铟锡、氧化锌、镉锡氧化物、铟锌氧化物、二氧化锆或铝锌氧化物。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中该彩色滤光层系包含红色墨水、绿色墨水与蓝色墨水。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法，其中形成该彩色滤光层系包含利用一喷墨技术。一种彩色滤光片，系包含：一基板；复数个薄膜电晶体，系设置于该基板上为一薄膜电晶体阵列；一绝缘层，系覆盖于该薄膜电晶体阵列上，其中位于该些薄膜电晶体间扫描线区域该绝缘层之厚度系被部份移除；一图案化遮光层，系覆盖于该绝缘层上；一彩色滤光层，系设置于该绝缘层上且该图案化遮光层围绕该彩色滤光层；以及一透明导电层，系设置于该彩色滤光层上。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，更包含该薄膜电晶体阵列之该些薄膜电晶体的一接触窗设置于该绝缘层上。如申请专利范围第14项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层系暴露出该接触窗。如申请专利范围第14项所述之彩色滤光片，其中该接触窗系设置于该薄膜电晶体阵列之讯号线一侧且偏离该薄膜电晶体阵列之扫描线一侧。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层为复数个条状图案且设置于该基板上。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层系包含一矩阵状。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层系包含一树脂材料。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层系包含一金属铬。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该图案化遮光层系包含一氧化铬。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该透明导电层系包含氧化铟锡、氧化锌、镉锡氧化物、铟锌氧化物、二氧化锆或铝锌氧化物。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片，其中该彩色滤光层系包含红色墨水、绿色墨水与蓝色墨水。 |
