| 主权项 |
一种膜图案之形成方法，其系藉由将机能液配置于基板上以形成膜图案者，且特征在于具有以下步骤：于前述基板上形成堤岸之步骤；将前述机能液配置于藉由前述堤岸所划分之区域之步骤；及使前述基板上所配置之前述机能液乾燥之步骤；前述堤岸之形成步骤包含：于前述基板上形成含有前述堤岸形成材料之薄膜之步骤；于前述薄膜之表面实施拨液处理之步骤；及将前述薄膜加以图案化而成为前述堤岸形状之步骤；且前述堤岸形成材料含有聚矽氮、聚矽烷、聚矽氧烷之任一种。如请求项1之膜图案之形成方法，其中前述堤岸之形成步骤包含：于前述基板上形成含有前述堤岸形成材料之薄膜之步骤；对前述薄膜实施曝光处理之步骤；对前述薄膜之表面实施拨液处理之步骤；及将前述薄膜加以图案化而成为前述堤岸形状之步骤。如请求项1之膜图案之形成方法，其中前述堤岸形成材料包括含有聚矽氮、聚矽烷、聚矽氧烷之任一种之感光性之材料。如请求项2之膜图案之形成方法，其中前述堤岸形成材料包括含有聚矽氮、聚矽烷、聚矽氧烷之任一种之感光性之材料。如请求项1至4中任一项之膜图案之形成方法，其中使用液滴吐出法将前述机能液配置于前述区域。如请求项5之膜图案之形成方法，其中藉由前述堤岸所划分之区域系部分宽度广阔地形成。一种元件制造方法，其特征在于：该元件系于基板上形成有膜图案而成者，前述元件制造方法系藉由如请求项1至6中任一项之膜图案之形成方法于前述基板上形成前述膜图案。如请求项7之元件制造方法，其中前述膜图案构成前述基板上所设开关元件之一部分。如请求项7之元件制造方法，其中前述膜图案构成前述基板上所设开关元件之闸极电极与闸极布线中之至少一者之至少一部分。 |
