| 主权项 |
一种薄膜电晶体阵列基板，具有一显示区与一非显示区，包括：一第一金属层，配置于该显示区边缘；一第二金属层，至少邻接该第一金属层配置；以及至少一环状彩色滤光薄膜，环绕该显示区边缘配置。如申请专利范围第1项所述之薄膜电晶体阵列基板，更包括：复数条扫描配线，配置在该显示区内；复数条资料配线，配置在该显示区内，其中该些资料配线与该些扫描配线系构成复数个画素区域；复数个薄膜电晶体，配置于该些资料配线与该些扫描配线之交错处，且系藉由该些资料配线与该些扫描配线控制；复数个画素电极，配置于该些画素区域中，且分别与对应之该些薄膜电晶体电性连接；以及复数个彩色滤光薄膜，配置于该些画素区域上。如申请专利范围第2项所述之薄膜电晶体阵列基板，其中该些彩色滤光薄膜系延伸至该显示区域边缘。如申请专利范围第3项所述之薄膜电晶体阵列基板，其中该些彩色滤光薄膜包括一第一彩色滤光薄膜。如申请专利范围第4项所述之薄膜电晶体阵列基板，其中该至少一环状彩色滤光薄膜包括一第二彩色滤光薄膜以及一第三彩色滤光薄膜其中之一。如申请专利范围第5项所述之薄膜电晶体阵列基板，其中该至少一环状彩色滤光薄膜包括互相堆叠的一第二彩色滤光薄膜以及一第三彩色滤光薄膜。如申请专利范围第6项所述之薄膜电晶体阵列基板，更包括该第二金属层与部分该第一金属层重叠配置。一种遮光结构，适用于一薄膜电晶体阵列基板之一非显示区，包括：一第一金属层，配置于该非显示区；一第二金属层，与该第一金属层相邻配置，其中该第一金属层与该第二金属层以一绝缘层电性隔离；以及至少一彩色滤光薄膜，配置于该第一与该第二金属层上。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该第一金属与该第二金属层具有一重叠区域，用以避免斜向光线入射造成之漏光。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该第一金属层系浮置设置。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该第二金属层系浮置设置。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该第一金属层系与该薄膜电晶体阵列基板之一扫描配线电性连接。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该第二金属层系与该薄膜电晶体阵列基板之一资料配线电性连接。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该彩色滤光薄膜上更包括一彩色滤光叠层。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，其中该彩色滤光薄膜与该第二金属层之间更包括一绝缘层。如申请专利范围第8项所述之遮光结构，更包括该第二金属层与部分该第一金属层重叠配置。一种薄膜电晶体阵列基板的制作方法，包括：于一基材上形成一第一金属层，该基材包括一显示区与一非显示区；图案化该第一金属层，以于该显示区内形成复数个闸极与复数条扫描配线，其中该些扫描配线延伸至该显示区边缘；于该基材上形成一闸极绝缘层；在该些闸极上形成一图案化非晶矽层，以形成复数个通道层；于该基材上形成一第二金属层；图案化该第二金属层，以于该些闸极上形成复数个源极、复数个汲极，并于该基材上形成复数条资料配线以及于该显示区边缘形成复数条拟金属层，其中该些资料配线实质上正交于该些扫描配线并与该些扫描配线构成复数个画素区域，该些闸极、该些通道层、该些源极以及该些汲极系组成复数个薄膜电晶体，且该些拟金属层部分邻接于该些扫描配线，以防止该显示区边缘漏光；于该基材上形成一第一彩色滤光薄膜；图案化该第一彩色滤光薄膜，以保留该些画素区域内的部分该第一彩色滤光薄膜以及于该显示区边缘形成一第一环状彩色滤光薄膜；以及于该显示区内的该基材上形成复数个画素电极，该些画素电极系与对应之该些薄膜电晶体电性连接。如申请专利范围第17项所述之制作方法，更包括该些拟金属层与部分该些扫描配线重叠配置。如申请专利范围第17项所述之制作方法，其中图案化该第一彩色滤光薄膜之步骤后，更包括形成一第二彩色滤光薄膜，覆盖该第一彩色滤光薄膜。如申请专利范围第19项所述之制作方法，其中形成该第二彩色滤光薄膜之步骤后，更包括形成一第三彩色滤光薄膜，覆盖该第二彩色滤光薄膜。一种薄膜电晶体阵列基板的制作方法，包括：于一基材上形成一第一金属层，该基材包括一显示区与一非显示区；图案化该第一金属层，以于该显示区内形成复数个闸极与复数条扫描配线以及于该显示区边缘形成复数条拟金属层；于该基材上形成一闸极绝缘层；在该些闸极上形成一图案化非晶矽层，以形成复数个通道层；于该基材上形成一第二金属层；图案化该第二金属层，以于该些闸极上形成复数个源极、复数个汲极，并于该基材上形成复数条资料配线，其中该些资料配线延伸至该显示区边缘，其中该些资料配线与该些扫描配线系构成复数个画素区域，该些闸极、该些通道层、该些源极以及该些汲极系组成复数个薄膜电晶体，且该些拟金属层至少邻接于该些资料配线，以防止该显示区边缘漏光；于该基材上形成一第一彩色滤光薄膜；图案化该第一彩色滤光薄膜，以保留该些画素区域内的部分该第一彩色滤光薄膜以及于该显示区边缘形成一第一环状彩色滤光薄膜；以及于该显示区内的该基材上形成复数个画素电极，该些画素电极系与该些薄膜电晶体电性连接。如申请专利范围第21项所述之制作方法，更包括该些拟金属层与部分该些资料配线重叠配置。如申请专利范围第21项所述之制作方法，其中图案化该第一彩色滤光薄膜之步骤后，更包括形成一第二彩色滤光薄膜，覆盖该第一彩色滤光薄膜。如申请专利范围第23项所述之制作方法，其中形成该第二彩色滤光薄膜之步骤后，更包括形成一第三彩色滤光薄膜，覆盖该第二彩色滤光薄膜。一种薄膜电晶体阵列基板的制作方法，包括提供一基材，该基材包括一显示区与一非显示区，其特征在于：于该显示区边缘形成复数个第一金属层；于该基材上形成复数个第二金属层，该些第二金属层系至少邻接该些第一金属层；以及环绕该显示区边缘形成至少一环状彩色滤光薄膜。如申请专利范围第25项所述之制作方法，更包括该些第二金属层与部分该第一金属层重叠配置。如申请专利范围第25项所述之制作方法，更包括：于该显示区内形成复数条扫描配线；于该显示区内形成复数条资料配线，其中该些资料配线与该些扫描配线系构成复数个画素区域；于该些资料配线与该些扫描配线之交错处形成复数个薄膜电晶体，该些薄膜电晶体系藉由该些资料配线与该些扫描配线控制；于该些画素区域中形成复数个画素电极，该些画素电极分别与对应之该些薄膜电晶体电性连接；以及于该些画素区域上形成复数个彩色滤光薄膜。如申请专利范围第27项所述之制作方法，其中该些彩色滤光薄膜系延伸至该显示区域边缘。如申请专利范围第28项所述之制作方法，其中该些彩色滤光薄膜包括一第一彩色滤光薄膜。如申请专利范围第29项所述之制作方法，其中该环状彩色滤光叠层包括互相堆叠的一第二彩色滤光薄膜以及一第三彩色滤光薄膜。如申请专利范围第29所述之制作方法，其中该环状彩色滤光叠层包括一第二彩色滤光薄膜以及一第三彩色滤光薄膜其中之一。 |
