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一种钌合金溅镀靶，系将钌粉末与选自钽、铌、钛、铪或锆之金属粉末两者的混合粉末加以烧结而制得，其特征在于：气体成分除外之靶纯度为99.95重量%以上，该选自钽、铌、钛、铪或锆之金属含量为5原子%~60原子%，相对密度为99%以上，杂质之氧含量则为1000ppm以下，于靶组织，在钌与选自钽、铌、钛、铪或锆之金属两者间界面并未看见氧浓缩部，且具有该等金属之未合金化组织。如申请专利范围第1项之钌合金溅镀靶，其中，该氧含量为100~500重量ppm。如申请专利范围第1或2项之钌合金溅镀靶，其中，该选自钽、铌、钛、铪或锆之金属为钽。如申请专利范围第1或2项之钌合金溅镀靶，其中，该选自钽、铌、钛、铪或锆之金属为铌。如申请专利范围第1或2项之钌合金溅镀靶，其中，硼(B)及磷(P)含量皆不满1ppm。如申请专利范围第1或2项之钌合金溅镀靶，其中，钌与选自钽、铌、钛、铪或锆之金属两者的未合金化组织其平均结晶粒径为5~50μm。 |
