| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer Beschichtung, welche zumindest ein erstes Element enthält, auf einem Substrat mittels einer aktivierten Gasphasenabscheidung, bei welchem das Substrat in eine Gasatmosphäre eingebracht wird, welche zumindest das erste Element enthält, und die Gasatmosphäre durch ein beheiztes Aktivierungselement aktiviert wird, wobei das erste Element ausgewählt ist aus Silicium, Germanium, Kohlenstoff, Bor oder Stickstoff, und das Material des Aktivierungselementes zumindest ein Metall und zumindest ein zweites Element enthält, wobei das zweite Element ausgewählt ist aus Silicium, Bor, Germanium, Kohlenstoff und/oder Stickstoff und vom ersten Element verschieden ist.</p> |
| 申请人 |
FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;SCHAEFER, LOTHAR;HOEFER, MARKUS;HARIG, TINO;LAUKART, ARTUR |
发明人 |
SCHAEFER, LOTHAR;HOEFER, MARKUS;HARIG, TINO;LAUKART, ARTUR |
