发明名称 |
一种MEMS压力敏感芯片及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供了一种MEMS压力敏感芯片。其能有效提高芯片的稳定性,其误差小、精度高。其包括硅片、基底、敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件,其特征在于:所述基底具体为衬底硅片,所述衬底硅片的上表面和下表面的中心部分均开有浅槽,所述衬底硅片的上表面为二氧化硅(SiO2)的氧化层,所述硅片的底面键合于所述衬底硅片的上表面。 |
申请公布号 |
CN101825505A |
申请公布日期 |
2010.09.08 |
申请号 |
CN201010152893.3 |
申请日期 |
2010.04.22 |
申请人 |
无锡市纳微电子有限公司 |
发明人 |
沈绍群;周刚;王树娟;郭玉刚 |
分类号 |
G01L1/18(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01L1/18(2006.01)I |
代理机构 |
无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 |
代理人 |
顾朝瑞 |
主权项 |
一种MEMS压力敏感芯片,其包括硅片、基底、敏感电阻排布区、敏感电阻排布区外部电气连接件,其特征在于:所述基底具体为衬底硅片,所述衬底硅片的上表面和下表面的中心部分均开有浅槽,所述衬底硅片的上表面为二氧化硅(SiO2)的氧化层,所述硅片的底面键合于所述衬底硅片的上表面。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市新区长江路7号 |