发明名称 | 多沟道电流扩展型半导体恒电流二极管 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种多沟道电流扩展型半导体恒电流二极管,其特征在于:在P+型半导体衬底(1)上外延N型半导体区域(2)和P+型半导体区域(3),P+型半导体区域(3)将N型半导体区域(2)分为2个PN结隔离区,隔离区上栅扩散有第一P+半导体区域(4-1)、第二P+半导体区域(4-2),以及第一N+半导体区域(5-1)、第二N+半导体区域(5-2)、第三N+半导体区域(5-3);构成多沟道N-JFET和PNP晶体管复合结构。本实用新型将电源正极接到器件正极,电源负极接到器件负极(也可以通过负载接到负极),可以在一个基本回路中实现的恒电流特性。恒电流值的大小可以通过N-JFET的沟道数量或PNP的电流增益的设计实现,该结构可达到20mA~100mA系列的输出恒定电流。 | ||
申请公布号 | CN201576684U | 申请公布日期 | 2010.09.08 |
申请号 | CN200920312022.6 | 申请日期 | 2009.10.09 |
申请人 | 贵州大学 | 发明人 | 刘桥 |
分类号 | H01L27/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/06(2006.01)I |
代理机构 | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人 | 刘楠 |
主权项 | 一种多沟道电流扩展型半导体恒电流二极管,其特征在于:在P+型半导体衬底(1)上外延N型半导体区域(2),在N型半导体区域(2)上扩散P+型半导体区域(3),P+型半导体区域(3)和P+型半导体衬底(1)连通,将N型半导体区域(2)分为第一PN结隔离区(2-1)、第二PN结隔离区(2-2);在第一PN结隔离区(2-1)上扩散有第一P+半导体区域(4-1),在第二PN结隔离区(2-2)上扩散有第二P+半导体区域(4-2);在扩散的第一P+半导体区域(4-1)之间的第一PN结隔离区(2-1)上扩散有第一N+半导体区域(5-1)、第二N+半导体区域(5-2),在第二PN结隔离区(2-2)上扩散有第三N+半导体区域(5-3);第二N+半导体区域(5-2)与第三N+半导体区域(5-3)通过金属电极(6)连接;P+型半导体区域(3)、第一N+半导体区域(5-1)和第一P+半导体区域(4-1)通过电极(7)连接。 | ||
地址 | 550003 贵州省贵阳市蔡家关 |