SE电池的掩膜设备

摘要

本实用新型所公开的SE电池的掩膜设备，它包括沉淀室，沉淀室内设有石墨载板，石墨载板上规则地分布有硅片承载框，所述的承载框内凸出地设有与电池电极形状一致的掩模。本实用新型所得到的SE电池的掩膜设备，当生产运行沉积工艺后，由于掩模与电池电极图形一致，掩模的阻挡作用可使电池表面待印电极栅线的地方不淀积上薄膜，而在其它区域形成一层阻挡薄膜，为后续扩散工艺形成选择性的扩散创造了条件，使得后续的轻重掺杂可一次性完成，节省了工艺的同时又可实现在电机栅线及其附近形成深结区，其余区域为浅结区的技术工艺要求。

主权项

一种SE电池的掩膜设备，它包括沉淀室(1)，沉淀室(1)内设有石墨载板(2)，石墨载板(2)上规则地分布有硅片承载框(3)，其特征是所述的承载框内凸出地设有与电池电极形状一致的掩模(4)。