发明名称 ETCHING RESISTANT FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SURFACE CURED RESIST PATTERN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
摘要
申请公布号 EP1598858(A4) 申请公布日期 2010.09.08
申请号 EP20030707174 申请日期 2003.02.28
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 NOZAKI, KOJI;TAKEDA, MASAYUKI
分类号 H01L21/3065;B44C1/22;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/8247 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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