发明名称 |
液体处理装置及液体处理方法 |
摘要 |
本发明提供液体处理装置及液体处理方法。即使提高基板的转速且以低排气量进行处理杯内的排气,也能够抑制排气气流的逆流,抑制雾沫再次附着于基板。该抗蚀剂涂敷装置在形成有下降气流的处理杯(33)中对旋转的晶圆(W)涂敷抗蚀液,其中,包括:上侧引导部(70),其在保持于处理杯(33)的旋转吸盘(31)上的晶圆(W)的外周附近,以隔着间隙包围该晶圆(W)的方式设置为环状,其内周面的纵截面形状向外侧鼓起地弯曲而向下方延伸;下侧引导部(45),其由从上述晶圆(W)的周缘部下方向外侧下方倾斜的倾斜壁(41)、和与该倾斜壁(41)连续且向下方垂直延伸的垂直壁(42)构成。 |
申请公布号 |
CN101826449A |
申请公布日期 |
2010.09.08 |
申请号 |
CN201010126849.5 |
申请日期 |
2010.03.04 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
高栁康治;木下尚文 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种液体处理装置,该液体处理装置在形成有下降气流的处理杯内一边使保持于基板保持部的基板旋转、一边对该基板进行液体处理,并且,从处理杯的下部吸引排出该处理杯内部的气氛且排出液体,其特征在于,包括:喷嘴,其用于向保持于上述基板保持部的基板供给处理液;下侧引导部,其从与保持于上述基板保持部的基板背面的周缘部接近且相对的位置朝向外侧下方倾斜延伸,且在基板的周向上形成为环状;上侧引导部,其上端面位于与保持于上述基板保持部的基板的表面大致相同的高度,并且,在上侧引导部与上述下侧引导部之间形成用于将自基板飞散的处理液与气流一同向下方引导的下侧环状流路,且以包围基板的外侧下方区域的方式与上述下侧引导部相对地形成为环状,上侧引导部的内周面的纵截面形状向外侧鼓起地弯曲着向下方延伸。 |
地址 |
日本东京都 |