发明名称 半导体发光元件及其制造方法
摘要 本发明涉及半导体发光元件及其制造方法。在n型GaN衬底(10)(半导体衬底)上设置有半导体层(12)。半导体层(12)具有活性层(26),并形成有波导脊(40)。p侧电极(44)(电极)接触于波导脊(40)的顶部的整个面。SiO2膜(46)(绝缘膜)覆盖波导脊(40)的侧面、p侧电极(44)的侧面、以及p侧电极(44)的上表面的两端部分,不覆盖p侧电极(44)的上表面的部分。由此,能够降低工作电压,并防止电极剥落。
申请公布号 CN101826585A 申请公布日期 2010.09.08
申请号 CN201010142157.X 申请日期 2010.03.01
申请人 三菱电机株式会社 发明人 冈贵郁;楠政谕;阿部真司
分类号 H01L33/36(2010.01)I 主分类号 H01L33/36(2010.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 闫小龙;徐予红
主权项 一种半导体发光元件,其特征在于,具备:半导体衬底;半导体层,设置在所述半导体衬底上,具有活性层,并且形成有波导脊;电极,接触于所述波导脊的顶部的整个面;以及绝缘膜,覆盖所述波导脊的侧面、所述电极的侧面、以及所述电极的上表面的两端部分,并且不覆盖所述电极的上表面的中央部分。
地址 日本东京都