发明名称 |
用于优化图案化晶片清洁的设备和方法 |
摘要 |
提供用于清洁晶片表面、尤其是图案化晶片的表面的方法和设备。该清洁设备包括在面向该图案化晶片的表面上具有通道的清洁头,该晶片具有占主导地位的图案。流过该通道的清洁材料在图案化晶片的表面施加剪切力,其晶片的方位设为相对该清洁头的一定方向。该剪切力、该图案化晶片的一定方向和该清洁头提高该表面污染物的去除效率。 |
申请公布号 |
CN101828252A |
申请公布日期 |
2010.09.08 |
申请号 |
CN200880113115.4 |
申请日期 |
2008.10.15 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
约翰·M·德拉里奥斯;埃里克·M·弗里尔;迈克尔·拉夫金;杰弗里·马克斯 |
分类号 |
H01L21/302(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/302(2006.01)I |
代理机构 |
上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 |
代理人 |
樊英如 |
主权项 |
一种用于分散清洁材料以去除图案化晶片表面上的污染物的清洁头,包括:臂,用于将该清洁头保持为邻近该表面;具有多个面向该图案化晶片表面的通道的清洁头,其中多个通道的每个具有两端,该两端的一个分散该清洁材料,该清洁材料从分散端流到该通道中的另一端,该分散端连接到该清洁材料的供应源,所分散的清洁材料将沿该多个通道的每个的轴线方向的剪切力施加到该晶片以促进该图案化晶片表面上的污染物的去除。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |