发明名称 一种超高介、低损耗的高频介质陶瓷及其制备方法
摘要 本发明公开了一种超高介、低损耗的高频介质陶瓷及其制备方法,采用28%-53%的Nb2O5和5%~31%Ta2O5为初始原料,采用预先合成先驱体的方法制备出(Nb1-xTax)2O5,其中X=0~0.4,再在先驱体中加入39%~46%的Ag2O,高温煅烧反应生成Ag(Nb1-xTax)O3,X=0~0.4,再加入4.2%~7.0%的添加剂Bi2O3制备介质陶瓷。本发明的陶瓷材料的烧结温度较低(1060~1130℃),并且具有极高的介电常数(ε>700)、较低的介电损耗(tanδ<10×10-4)和较高的电阻率(>1012Ω·cm),制备工艺简单,过程无污染。
申请公布号 CN101215160B 申请公布日期 2010.09.08
申请号 CN200710060578.6 申请日期 2007.12.29
申请人 天津大学 发明人 李玲霞;曹丽凤;张平;王洪茹;张志萍
分类号 C04B35/495(2006.01)I;C04B35/64(2006.01)I;C04B41/88(2006.01)I;H01G4/12(2006.01)I 主分类号 C04B35/495(2006.01)I
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人 刘立春
主权项 一种超高介、低损耗的高频介质陶瓷,其特征在于,由基质Ag(Nb1-xTax)O3和添加剂Bi2O3组成,组分含量为:以Ag(Nb1-xTax)O3的质量为100%,添加剂Bi2O3的质量为Ag(Nb1-xTax)O3质量的4.2%~7.0%,其中0<X≤0.4。
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