一种去除原料药中有机溶剂残留的方法

摘要

本发明公开了一种去除原料药中有机溶剂残留的方法，在温度35～80℃和压力10～40MPa下，先静态萃取0.5～2小时再动态萃取0.5～6小时，在萃取釜中得到有机溶剂残留符合限量标准的原料药成品；并对萃取釜中流出的二氧化碳进行减压分离，压力4～7MPa，温度25～45℃，收集分离釜中析出物，回收其中的原料药，并进入萃取釜套用。采用吸附剂对分离釜流出的二氧化碳进行吸附分离，得到的二氧化碳通入萃取釜循环使用。采用该方法得到的原料药成品中有机溶剂残留符合限量标准，原料药收率高，二氧化碳可循环利用。本发明方法的流程简单、操作稳定、经济高效，适合于工业化应用。

主权项

一种去除原料药中有机溶剂残留的方法，包括以下步骤：(1)对原料药进行超临界二氧化碳萃取，控制萃取温度35～80℃，压力10～40MPa，萃取过程分为二个阶段：第一阶段为静态萃取，萃取时间0.5～2小时；第二阶段为动态萃取，萃取时间0.5～6小时，动态萃取过程中每小时通入的超临界二氧化碳与所处理的原料药的重量比为0.5～30；萃取完成后，收集萃取釜中的物质，得到有机溶剂残留符合限量标准的原料药成品；(2)对步骤(1)的动态萃取过程中从萃取釜流出的溶解有萃取物的二氧化碳进行减压分离，减压分离的压力4～7MPa，分离温度25～45℃；分离完成后，收集分离釜中的析出物，回收其中的原料药套用；所述的原料药为盐酸柔红霉素、盐酸阿霉素、盐酸表柔比星、丝裂霉素、富表甲氨基阿维菌素、依维菌素、美罗培南、氟脲苷、洛伐他汀、辛伐他汀、头孢拉定、甲氨蝶呤、酒石酸长春瑞滨或青蒿素。