发明名称 |
成膜装置和成膜方法 |
摘要 |
本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该公开的成膜装置在真空容器的顶板上具有透射窗,利用透过该透射窗向基座上的晶圆照射光来测量所形成的膜的膜厚。具体地讲,膜厚测量系统包括:配置在透射窗的上表面上的3个光学单元;利用光学方式分别与各个光学单元相连接的光纤线;利用光学方式与这些光纤线相连接的测量单元;以及为了对测量单元进行控制而与测量单元电连接的控制单元。 |
申请公布号 |
CN101826447A |
申请公布日期 |
2010.09.08 |
申请号 |
CN201010122656.2 |
申请日期 |
2010.03.03 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
加藤寿;本间学 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种成膜装置,其在容器内执行按顺序将互相反应的至少2种反应气体供给到基板上的循环,在该基板上生成反应生成物的层,从而形成膜,其中,包括:基座,其能够旋转地设置在上述容器内,在其一个面上具有用于载置上述基板的载置区域;窗部,其以与上述容器的上述基座相对的方式,相对于上述容器气密地设置在上述容器上;膜厚测量部,其利用光学方式透过上述窗部来测量被形成在载置于上述基座的上述基板上的膜的膜厚;第1反应气体供给部,其用于将第1反应气体供给到上述一个面上;第2反应气体供给部,其沿着上述基座的旋转方向与上述第1反应气体供给部隔开间隔,用于将第2反应气体供给到上述一个面上;分离区域,其沿着上述旋转方向而位于被供给上述第1反应气体的第1处理区域与被供给上述第2反应气体的第2处理区域之间,将上述第1处理区域和上述第2处理区域分离;中央区域,其位于上述容器的中央部,用于将上述第1处理区域和上述第2处理区域分离,并具有沿着上述一个面喷出第1分离气体的喷出孔;以及排气口,其为了对上述容器内进行排气而设置于上述容器上,上述分离区域包括顶面和用于供给第2分离气体的分离气体供给部,该顶面用于相对于上述基座的上述一个面形成狭窄的空间,该狭窄的空间能够供上述第2分离气体在上述旋转方向上从上述分离区域流动到上述处理区域侧。 |
地址 |
日本东京都 |