发明名称 PROCEDES ET DISPOSITIF POUR LE DEPOT CHIMIQUE CONTROLE EN PHASE VAPEUR
摘要 <p>Système d'injecteur de gaz permettant d'améliorer la distribution et le contrôle directionnel de la matière vaporisée dans un procédé CVD ou CVI. On peut utiliser des systèmes d'injecteur de gaz sans rencontrer d'obstruction importante des ouvertures de tube d'injecteur de gaz au cours de plusieurs procédures CVD. En outre, un système d'injecteur de gaz comprend un système de dégagement à double ouverture et/ou permet à la matière vaporisée de circuler en direction sensiblement horizontale et en direction sensiblement verticale.</p>
申请公布号 FR2942596(A1) 申请公布日期 2010.09.03
申请号 FR20090059644 申请日期 2009.12.29
申请人 GOODRICH CORPORATION 发明人 FRY VINCENT
分类号 B01F5/04;C04B35/83;C23C16/455;C23C16/458 主分类号 B01F5/04
代理机构 代理人
主权项
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