摘要 |
<p>Système d'injecteur de gaz permettant d'améliorer la distribution et le contrôle directionnel de la matière vaporisée dans un procédé CVD ou CVI. On peut utiliser des systèmes d'injecteur de gaz sans rencontrer d'obstruction importante des ouvertures de tube d'injecteur de gaz au cours de plusieurs procédures CVD. En outre, un système d'injecteur de gaz comprend un système de dégagement à double ouverture et/ou permet à la matière vaporisée de circuler en direction sensiblement horizontale et en direction sensiblement verticale.</p> |