发明名称 MASAS DE RECUBRIMENTO DE BAJA INTENSIDAD.
摘要 Masas de recubrimiento, que pueden ser endurecidas por medio de irradiación, que contienen (A)al menos un compuesto con, al menos, dos grupos (met)acrilato, que se eligen entre el grupo constituido por el poliéster(met)acrilato, el poliéter(met)acrilato, el policarbonato(met)acrilato, el epóxido(met)acrilato y el uretano(met)acrilato, (B)en caso dado, al menos, un compuesto con, al menos, un grupo etilénicamente insaturado, que sea distinto de (A), (C)el éster de divinilo del ácido adípico, (D)en caso dado, al menos, un disolvente, (E)al menos un fotoiniciador y (F)en caso dado, otros componentes típicos de los esmaltes, caracterizadas porque la proporción del éster de divinilo del ácido adípico (C) con respecto a la suma de los componentes (A) + (B) + (C), que pueden ser endurecidos por medio de irradiación, supone, al menos, un 20% en peso, estando constituido el epóxido(met)acrilato por el producto de reacción del ácido (met)acrílico con diglicidiléter de bisfenol-A, con diglicidiléter de bisfenol-F, con diglicidiléter de 1,4-butanodiol, con diglicidiléter de 1,6-hexanodiol, con triglicidiléter de trimetilolpropano, con tetraglicidiléter de pentaeritrita, con 1,1,2,2-tetraquis[4-(2,3-epoxipropoxi)fenil]etano (CAS-Nr. [27043-37-4]), con diglicidiléter de polipropilenglicol (α,ω-bis(2,3-epoxipropoxi)poli(oxipropileno) (CAS-Nr. [16096-30-3]) o de bisfenol A hidrogenado (2,2-bis[4-(2,3-epoxipropoxi)ciclohexil]propano, CAS-Nr. [13410-58-7]).
申请公布号 ES2344671(T3) 申请公布日期 2010.09.02
申请号 ES20070822351T 申请日期 2007.11.08
申请人 BASF SE 发明人 LAFUENTE CERDA, OSCAR;HEISCHKEL, YVONNE;VETTER, MICHAEL;SCHWALM, REINHOLD;GRUBER, NICK
分类号 C09D201/02;C09D4/00 主分类号 C09D201/02
代理机构 代理人
主权项
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