| 主权项 |
一种聚合物，其包含通式(1a)、(1b)及(1c)的重覆单元：@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!其中R1、R2、R5及R6各为氢或氟原子，R3及R7各为氟原子或具有1至10个碳原子的直链、支化或环状氟烷基，R4是酸易变基团，R8是选自下列基团的随附基团：@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!而通式(1c)为至少一种选自下列各式者：@sIMGTIF!d10009.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项之聚合物，其中R3及R7各为三氟甲基。如申请专利范围第1项之聚合物，其中R4所表示的酸易变基团是至少一个选自通式(2)至(4)的基团：@sIMGTIF!d10010.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10011.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10012.TIF@eIMG!其中R14及R17各为具有1至20个碳原子的单价烃基，R15及R16各为氢或具有1至20个碳原子的直链、支化或环状烷基，R18至R20各为具有1至20个碳原子且其中一些氢原子可为氟原子所替代的单价烃基，R14至R20可以含有杂原子例如氧、硫、氮或氟，R15与R16、R15与R17、R16与R17、R18与R19、R18与R20及R19与R20每一对基团可彼此键结而与其所键结之碳原子或碳及氧原子形成3至20(特别是4至12)个碳原子的环，该环为单环、杂环或类似物，并且g为0至10之数字。如申请专利范围第1项之聚合物，其进一步再包含至少一种选自下式(1d)的重覆单元：@sIMGTIF!d10013.TIF@eIMG!其中R26是氢、羟基或具有1至10个碳原子的直链、支化或环状烷基。如申请专利范围第1项之聚合物，其进一步再包含至少一种选自下式(1e)的重覆单元：@sIMGTIF!d10014.TIF@eIMG!一种光阻组成物，包含申请专利范围第1项之聚合物。一种化学放大正型光阻组成物，其包含(A)申请专利范围第1项之聚合物，(B)有机溶剂，及(C)光酸产生剂。如申请专利范围第7项之光阻组成物，其进一步再包含(D)硷性化合物。如申请专利范围第7项之光阻组成物，其进一步再包含(E)溶解抑制剂。一种形成图案的方法，其包含以下步骤：将申请专利范围第6项之光阻组成物施加至基材上以形成涂层，将该涂层施以热处理，再经由光罩将其曝于具有波长最高至200 nm的高能量辐射，以及视需要将该曝光后的涂层实施热处理并以显影剂实施显影。如申请专利范围第10项之方法，其中该高能量辐射为ArF准分子雷射束。 |
