| 主权项 |
一种传送缆线，其特征在于：在一绝缘层的单侧形成多数条讯号线，并在该些讯号线间形成一接地线，其中该接地线电性连接到一遮蔽层，该遮蔽层是通过埋入该绝缘层中而形成的金属凸块，形成在该绝缘层的背面；以及该讯号线为一差动讯号线。如申请专利范围第1项所述之传送缆线，其中该绝缘层为聚亚胺与液晶聚合物所构成。一种传送缆线，其特征在于：在一绝缘层的单侧形成多数条讯号线，并在该些讯号线间形成一接地线，其中该接地线电性连接到一遮蔽层，该遮蔽层是通过埋入该绝缘层中而形成的金属凸块，形成在该绝缘层的背面；以及该金属凸块的间距比流过该讯号线的传送讯号的波长短。如申请专利范围第3项所述之传送缆线，其中该金属凸块的间距为0.5mm或以下。一种传送缆线，其特征在于：在一绝缘层的单侧形成多数条讯号线，并在该些讯号线间形成一接地线，其中该接地线电性连接到一遮蔽层，该遮蔽层是通过埋入该绝缘层中而形成的金属凸块，形成在该绝缘层的背面；以及该金属凸块是利用金属耦接，连接到该遮蔽层，以及该讯号线与该接地线。如申请专利范围第5项所述之传送缆线，其中更在该绝缘层的单侧或两侧上形成一零件搭载区域，用以搭载实现一预定功能的一个或以上的零件，并且形成从该零件搭载区域延伸出的配线。如申请专利范围第1项至第6项任何一项所述之传送缆线，其中在夹住该讯号线与该接地线的两侧上形成该绝缘层与该遮蔽层，以及该接地线在其两面通过该金属凸块，分别电性连接到该遮蔽层。一种传送缆线，其特征在于：在一绝缘层的单侧形成多数条讯号线，并在该些讯号线间形成一接地线，该接地线电性连接到一遮蔽层与一杂讯抑制层，其中该遮蔽层是通过埋入该绝缘层而形成的一金属凸块，形成于该绝缘层的背面侧，而该杂讯抑制层具有比该遮蔽层高的电性阻抗值，该杂讯抑制层具有抑制多于辐射及/或杂讯的功能，并且具有在形成该金属凸块的步骤中做为蚀刻终止之蚀刻阻障层的功能。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该杂讯抑制层是在该绝缘层的背面侧与该遮蔽层之间，接触该绝缘层与该遮蔽层而形成。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该杂讯抑制层为含有镍(Ni)的层。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该讯号线为一差动讯号线。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该该金属凸块的间距比流过该讯号线的传送讯号的波长短。如申请专利范围第12项所述之传送缆线，其中该金属凸块的间距为0.5mm或以下。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该绝缘层为聚亚胺或液晶聚合物所构成。如申请专利范围第8项所述之传送缆线，其中该该金属凸块是利用金属耦接，连接到该遮蔽层与该杂讯抑制层，以及/或该讯号线与该接地线。如申请专利范围第8项至第15项的任何一项所述之传送缆线，其中更在该绝缘层的单侧或两侧上形成一零件搭载区域，用以搭载实现一预定功能的一个或以上的零件，并且形成从该零件搭载区域延伸出的配线。如申请专利范围第16项所述之传送缆线，其中在夹住该讯号线与该接地线的两侧上形成该绝缘层，以及该遮蔽层与该杂讯抑制层，以及该接地线在其两面通过该金属凸块，分别电性连接到该遮蔽层与该杂讯抑制层。 |
