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一种制备聚四氢呋喃、聚四氢呋喃共聚物、二酯类或单酯类之方法，其系在至少一种调聚体及/或共聚用单体与酸性多相触媒存在下，基于活化片材矽酸盐或混合金属氧化物，于流化触媒床内藉聚合四氢呋喃而制备，其中该流化触媒床系于具有<1.15膨胀因子的流化点下或以膨胀因子为1.04至4之膨胀流化床形式下操作。如申请专利范围第1项之方法，其中触媒床之膨胀因子为<1.10。如申请专利范围第1项之方法，其中触媒床之膨胀因子为自1.05至2。如申请专利范围第1项之方法，其中用过触媒包含至少一个选自SiO2、TiO2及/或ZrO2之氧化物。如申请专利范围第4项之方法，其中触媒系以酸活化蒙脱石、Al2O3/SiO2、ZrO2/SiO2、WOx/TiO2及WOx/ZrO2为主。如申请专利范围第4项之方法，其中触媒系以酸活化蒙脱石或以Al2O3/SiO2、ZrO2/SiO2为主。如申请专利范围第1或2项之方法，其中用过触媒具有测比重密度为1.5至10克/立方公分。如申请专利范围第1或2项之方法，其中触媒之孔隙度为0.05至5立方公分/克。如申请专利范围第1或2项之方法，其中各个触媒颗粒具有体积为500立方微米至5立方公分。如申请专利范围第1或2项之方法，其中触媒之床密度为250至2500克/升。如申请专利范围第1或2项之方法，其中反应器系自底部流至顶部。如申请专利范围第1或2项之方法，其中触媒或触媒体积之部分系在规则间隔下连续或分批地回收及/或馈入聚合反应器而无反应器腾空及/或聚合反应为此目的中断。如申请专利范围第1或2项之方法，其中四氢呋喃在羧酸酐存在下聚合以得具有分子量为250至10,000道尔顿之聚四氢呋喃或其衍生物及共聚物。如申请专利范围第1或2项之方法，其中反应器于循环中操作而循环对进料之比率低于或等于200/升。如申请专利范围第1或2项之方法，其中触媒每小时空间速度为0.01至3.0公斤THF/公斤触媒＊h。如申请专利范围第1或2项之方法，其中表观速度为0.1至200立方米/平方米＊h。 |
