| 主权项 |
一种天然活性钙离子组成物，其每单位至少包含有：氢氧化钙550000~650000ppm；矽2800~3200ppm；钠2500~2800ppm；镁2300~2600ppm；钾500~560ppm；以及0~300ppm之微量元素。如请求项1所述活性钙离子组成物，其中该微量元素可以至少包含有：铝、硼、铁、锰、磷、锌、硒。一种活性钙离子组成物之制造方法，系依序包括有下列步骤：A、提供含钙原料；B、该含钙原料进行前处理步骤，以去除该含钙原料表面之有机物及杂质；C、粉碎步骤，系将该含钙原料形成小颗粒；D、高温烧结步骤，系利用1000~1500℃之温度，烧结10~15小时，将该含钙原料内之二氧化碳及碳系化合物去除；E、熟成步骤，以形成半成品，该半成品中含有氢氧化钙高达550000~650000ppm；F、研磨步骤，则形成粉末状之活性钙离子组成物。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该含钙原料可以为牡蛎壳、珍珠、贝壳、虾壳、蛤蜊壳、生蚝壳、扇贝壳、珊瑚或钟乳石。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该含钙原料主要系含有碳酸钙及微量矿物质。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤A与步骤B之间进一步包含有一步骤G，该步骤G系为前粉碎步骤。如请求项6所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该前粉碎步骤系将含钙原料形成直径约为5 cm大小之颗粒。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤C之粉碎步骤系将含钙原料形成直径约为1~2 cm大小之小颗粒。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤B之前处理步骤系进一步包含有：氧化剂冲洗、酸液清洗、硷液中和以及后清洗。如请求项9所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该氧化剂可以为20~35%的硫酸(H2SO4)、20~30%的硝酸(HNO3)、为5~25%的过氧化氢(H2O2)、亚磷酸二钾(K2PO3)、亚磷酸(H2PO3)、磷酸(H3PO4)、碳酸二钾(K2CO3)或磷酸三钾(K3PO4)。如请求项9所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该酸液可以为盐酸(HCl)、醋酸、碳酸钠、醋酸钠或氨水。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤B之前处理步骤系进一步包含有：氧化剂冲洗以及后清洗。如请求项12所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该氧化剂可以为20~35%的硫酸(H2SO4)、20~30%的硝酸(HNO3)、为5~25%的过氧化氢(H2O2)、亚磷酸二钾(K2PO3)、亚磷酸(H2PO3)、磷酸(H3PO4)、碳酸二钾(K2CO3)或磷酸三钾(K3PO4)。如请求项9或12所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该后清洗系以纯水进行超音波震荡清洗。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤E之熟成步骤系将去除二氧化碳之含钙原料放置于恒温、恒湿且无二氧化碳及碳系化合物之环境下进行熟成。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤F之研磨步骤系于含有氮气(N2)的环境下进行。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤F之研磨步骤系将半成品形成直径约为小于1μm大小之粉末。如请求项3所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤C与步骤D之间进一步包含有一步骤H，该步骤H系为乾燥步骤。如请求项18所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该乾燥步骤系于真空环境下进行，而去除该含钙原料中之水份。一种活性钙离子组成物之制造方法，系依序包括有下列步骤：A、提供含钙原料，其系含有大量之碳酸钙；D、高温烧结步骤，系以1000~1500℃之温度加热，烧结时间为10~15小时，将该含钙原料内之二氧化碳去除，其中该含钙原料中之碳酸钙系进行下列化学反应：@sIMGTIF!d10005.TIF@eIMG!E、熟成步骤，并进行下列化学反应：@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!以形成含有氢氧化钙高达550000~650000ppm之组成物。如请求项20所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该含钙原料可以为牡蛎壳、珍珠、贝壳、虾壳、蛤蜊壳、生蚝壳、扇贝壳、珊瑚或钟乳石。如请求项20所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤A与D之间系依序包含有：步骤B与步骤C，该步骤B系为前处理步骤，以去除该含钙原料表面之有机物及杂质，而该步骤C系为粉碎步骤，系将该含钙原料形成小颗粒。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤A与步骤B之间进一步包含有一步骤G，该步骤G系为前粉碎步骤。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤B之前处理步骤系进一步包含有：氧化剂冲洗、酸液清洗、硷液中和以及后清洗。如请求项24所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该氧化剂可以为20~35%的硫酸(H2SO4)、20~30%的硝酸(HNO3)、为5~25%的过氧化氢(H2O2)、亚磷酸二钾(K2PO3)、亚磷酸(H2PO3)、磷酸(H3PO4)、碳酸二钾(K2CO3)或磷酸三钾(K3PO4)。如请求项25所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该酸液可以为盐酸(HCl)、醋酸、碳酸钠、醋酸钠或氨水。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤B之前处理步骤系进一步包含有：氧化剂冲洗以及后清洗。如请求项27所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该氧化剂可以为20~35%的硫酸(H2SO4)、20~30%的硝酸(HNO3)、为5~25%的过氧化氢(H2O2)、亚磷酸二钾(K2PO3)、亚磷酸(H2PO3)、磷酸(H3PO4)、碳酸二钾(K2CO3)或磷酸三钾(K3PO4)。如请求项24或27所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该后清洗系以纯水进行超音波震荡清洗。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤E之熟成步骤系将去除二氧化碳之含钙原料内放置于恒温、恒湿且无二氧化碳及碳系化合物之环境下进行熟成。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤E进一步包含有一步骤F，该步骤F系为研磨步骤。如请求项31所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤F之研磨步骤系于含有氮气的环境下进行。如请求项31所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤F之研磨步骤系将半成品形成直径约为小于1μm大小之粉末。如请求项22所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该步骤C与步骤D之间进一步包含有一步骤H，该步骤H系为乾燥步骤。如请求项34所述活性钙离子组成物之制造方法，其中，该乾燥步骤系于真空环境下进行，而去除该含钙原料中之水份。 |
