发明名称 |
光束均化器和激光照射装置 |
摘要 |
由于光学元件特性的缘故,光学元件在光学系统中的设置是受限的,所以在设计用于形成预定的激光束的光学系统中存在困难。本发明的目的是为了设计具有所需功能的光学系统,该光学系统不受设置光学元件的限制的影响。因此,将离轴柱面透镜阵列用作作用在光束长边方向上的柱面透镜阵列。 |
申请公布号 |
CN1740845B |
申请公布日期 |
2010.09.01 |
申请号 |
CN200510071783.3 |
申请日期 |
2005.03.24 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
田中幸一郎;大石洋正 |
分类号 |
G02B27/10(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/10(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
王岳;梁永 |
主权项 |
一种光束均化器,包括:用于在一个方向上划分激光束的光斑的离轴柱面透镜阵列,该离轴柱面透镜阵列包括多个离轴柱面透镜;和用于在所述一个方向上会聚所述划分的激光束的光学元件;其中所述离轴柱面透镜阵列设在光源一侧而所述光学元件设在照射表面一侧,其中每个离轴柱面透镜的母线和它的中心轴之间的距离从所述离轴柱面透镜阵列的中心向所述离轴柱面透镜阵列的两端增加,和其中所述照射表面与假想平面相对于所述光学元件共轭,当划分的激光束延伸到所述光源一侧时,该划分的激光束在所述假想平面上重叠。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |