发明名称 使用薄膜的吸音结构
摘要 一种使用本发明薄膜的吸音结构,所述薄膜至少包括第一薄膜(11)和第二薄膜(12),所述第一薄膜(11)和所述第二薄膜(12)被相互层叠在一起,及所述第一薄膜和第二薄膜中的一个或二者具有隆起或凹槽中的至少一种(如图中的隆起(a))。对于所述薄膜(11)和(12)中的每一个来说,可以使用金属薄膜或树脂薄膜。期望在所述薄膜(11)和(12)上形成大量细小的通孔。
申请公布号 CN1754201B 申请公布日期 2010.09.01
申请号 CN200480005039.7 申请日期 2004.01.23
申请人 株式会社神户制钢所 发明人 山口善三;山极伊知郎;田中俊光;上田宏树
分类号 G10K11/16(2006.01)I 主分类号 G10K11/16(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 廖凌玲
主权项 一种吸音结构,其包括:至少第一薄膜和第二薄膜,所述第一薄膜和所述第二薄膜被相互层叠在一起,及所述第一薄膜和第二薄膜中的一个或二者具有隆起或凹槽中的至少一种,其中所述第一和第二薄膜布置成使得在入射声波时所述两薄膜振动且它们的重叠部分接触并相互摩擦;具有空气透过性的前部件,其被安装在所述薄膜的声波入射侧;后部件,其相对于所述薄膜安装成与所述前部件相对,及多个分割部件,这些分割部件安装在所述前部件和所述后部件之间并在所述薄膜的表面方向上将所述前部件和所述后部件之间的空间分割成多个部分。
地址 日本兵库县