发明名称 |
一种复合相位掩模板及成像系统 |
摘要 |
本发明公开了一种复合相位掩模板,其特征在于:所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含指数型和一次方型两种函数,相位分布函数θ(x,y)的函数式如下:θ(x,y)=α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)+κ·(x+y),式中,α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)为指数型函数,κ·(x+y)为一次方型函数;其中,α、β为指数函数调制因子,κ为相位调制因子,x,y为孔径平面归一化的空间坐标。本发明还公开了一种采用指数型和一次方型两种函数复合的复合相位掩模板的成像系统,该成像系统可以明显地改善采用指数型相位分布函数掩模板成像系统所固有的相位传递函数偏移现象。 |
申请公布号 |
CN101510011B |
申请公布日期 |
2010.09.01 |
申请号 |
CN200910097178.1 |
申请日期 |
2009.03.26 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
李奇;赵惠;冯华君;徐之海 |
分类号 |
G02B27/46(2006.01)I;H04N5/225(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/46(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 |
代理人 |
胡红娟 |
主权项 |
一种复合相位掩模板,其特征在于:所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含指数型和一次方型两种函数,相位分布函数θ(x,y)的函数式如下:θ(x,y)=α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)+κ·(x+y)式中,α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)为指数型函数,κ·(x+y)为一次方型函数;其中,α、β为指数函数调制因子,κ为相位调制因子,x,y为孔径平面归一化的空间坐标。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |