彩膜基板及其制造方法和液晶面板

摘要

本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法和液晶面板。该方法中，黑矩阵的图案与任一一种有色像素的图案一起形成，且具体步骤为：在衬底基板上涂覆一种有色像素材料层和黑矩阵材料层；涂覆光刻胶，并曝光形成半保留区域；进行显影，半保留区域保留部分厚度的光刻胶；刻蚀形成有色像素的图案；进行光刻胶灰化操作，半保留区域的光刻胶完全去除，完全保留区域的光刻胶保留一定厚度；刻蚀形成黑矩阵的图案。本发明的彩膜基板中：黑矩阵图案覆盖在任一一种有色像素的材料层之上。本发明的液晶面板包括本发明的彩膜基板。本发明采用黑矩阵与任一一种有色像素一起形成的技术手段，减少了彩膜基板的制造工序，提高了生产效率，进而降低了产品的成本。

主权项

一种彩膜基板的制造方法，包括：采用构图工艺在衬底基板上逐次分别形成至少一种有色像素的图案，并形成黑矩阵的图案，其特征在于，所述黑矩阵的图案与任一一种有色像素的图案一起形成，且具体形成步骤包括：在所述衬底基板上涂覆一种有色像素材料层；在所述有色像素材料层上涂覆黑矩阵材料层；在所述黑矩阵材料层上涂覆光刻胶；进行掩膜曝光显影操作，在所述光刻胶上形成完全去除区域、半保留区域和完全保留区域，所述完全去除区域的光刻胶被完全去除，所述半保留区域保留的光刻胶具有第一厚度，所述完全保留区域保留的光刻胶具有第二厚度，且所述第一厚度小于所述第二厚度；进行刻蚀操作，完全刻蚀掉所述完全去除区域下的黑矩阵材料层和有色像素材料层，形成所述有色像素的图案；进行光刻胶灰化操作，将剩余的光刻胶灰化去除所述第一厚度；进行刻蚀操作，完全刻蚀掉所述半保留区域下的黑矩阵材料层，形成所述黑矩阵的图案。