发明名称 制造振荡器装置的方法、有该装置的光偏转器和光学仪器
摘要 一种用于制造振荡器装置的方法,所述振荡器装置具有第一和第二振荡器,所述第一和第二振荡器以第一和第二驱动共振频率gf1和gf2驱动,所述方法包括用于加工两个振荡器的第一步骤,其中,当两个振荡器要加工成具有第一和第二共振频率的振荡器,所述第一和第二共振频率以某一分散范围不同于两个驱动共振频率时,两个振荡器被加工成使得与两个驱动共振频率不同的第一和第二共振频率分别等于第一和第二共振频率f1和f2,其分别包括在可调节的共振频率范围内,和用于调节第一和第二共振频率f1和f2的第二步骤,使得它们分别等于第一和第二驱动共振频率gf1和gf2。
申请公布号 CN101821660A 申请公布日期 2010.09.01
申请号 CN200880111065.6 申请日期 2008.11.13
申请人 佳能株式会社 发明人 藤井一成;加藤贵久;堀田薰央;宫川卓;秋山贵弘
分类号 G02B26/08(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I 主分类号 G02B26/08(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 钱亚卓
主权项 一种用于制造振荡器装置的方法,所述振荡器装置具有第一和第二振荡器,所述第一和第二振荡器由固定构件支撑以便通过第一和第二扭力弹簧围绕扭转轴线进行扭转振荡,所述振荡器装置以第一和第二驱动共振频率gf1和gf2被驱动,所述方法包括:用于加工两个振荡器的第一步骤,其中,当两个振荡器要被加工成具有第一和第二共振频率的振荡器,且所述第一和第二共振频率以某一分散范围不同于两个驱动共振频率时,两个振荡器被加工成使得与两个驱动共振频率不同的第一和第二共振频率分别等于第一和第二共振频率f1和f2,所述第一和第二共振频率f1和f2分别包括在能调节的共振频率范围内;和用于调节第一和第二共振频率f1和f2的第二步骤,使得所述第一和第二共振频率f1和f2分别等于第一和第二驱动共振频率gf1和gf2。
地址 日本东京