电子材料的激光印花转印

摘要

激光印花转印被用于通过引导非常低能量的激光脉冲在靶衬底的后面照射覆盖该靶前表面的高粘性流变流体薄层的一个区域来产生薄膜特征。通过以该激光束为中心的光圈来成形和限定被照射的区域。该印花转印处理允许与激光辐射区域的形状和尺寸相同的均匀连续层从靶衬底释放并转印到接收衬底。释放层几乎不改变其最初尺寸和形状越过间隙被转印。所得到的转印到接收衬底上的图案在厚度和形态上高度均匀，具有清晰的边缘特征并且表现出高度附着性，与接收衬底的表面能、湿润或疏水性无关。

主权项

一种用于激光沉积的方法，包括：提供接收衬底；提供靶衬底，所述靶衬底与所述接收衬底间隔开并且包括具有后表面和前表面的激光透明支撑物，其中所述靶衬底的所述前表面被覆盖了选择的厚度和粘性的流变复合物的层；以及提供激光束，所述激光束被引导穿过所述靶衬底的后面以照射所述覆盖层的给定区域，所述入射激光束具有选择的能量密度使得所述覆盖层的区域从所述靶衬底向所述接收衬底均匀地释放并且非蒸发地转印，其中转印后的流变复合物在所述接收衬底的表面上的限定位置处形成与所述入射激光照射的区域的尺寸和形状基本成1比1的沉积，从而引起印花转印。