发明名称 |
基板处理装置和基板处理条件研究方法 |
摘要 |
本发明提供一种在基板处理条件的研究中不耗费时间的基板处理装置。在基板处理装置(10)中,当在对一批量晶片(W)实施RIE处理期间进行方案的研究时,系统控制器的EC(89)作为对一批量晶片(W)实施的RIE处理的方案设定方案A,且使第一处理单元(25)的方案缓冲功能成为无效(步骤S801),对晶片(W)实施根据方案A的RIE处理(步骤S803),在方案A作为RIE处理的方案成为合适的情况下(步骤S805中“否”),根据方案A的修正输入修正方案A,在第一处理单元(25)中展开该所修正的方案A(步骤S808),对下批晶片(W)实施根据所修正的方案A的RIE处理(步骤S811)。 |
申请公布号 |
CN101034661B |
申请公布日期 |
2010.09.01 |
申请号 |
CN200710086067.1 |
申请日期 |
2007.03.08 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
横内健;八木文子 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种基板处理装置,其特征在于,包括:对基板实施处理的基板处理单元、以及在对规定块数的基板实施所述处理期间禁止变更所述处理的处理条件的禁止部,其中,还包括:在所述规定块数基板的处理期间解除禁止变更所述处理条件的解除部,以及修正所述处理条件的修正部,该基板处理装置还具有禁止向所述基板处理单元搬入所述基板的搬入禁止部,其中,所述修正部在禁止向所述基板处理单元搬入所述基板时,修正所述处理条件。 |
地址 |
日本东京都 |