Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem

摘要

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (2, 4, 6, 60) zur Reduzierung und/oder Dämpfung des Wärmeeintrags aufgrund der bei dem Betrieb des Aktuatorsystems (1) entstehenden Wärme in die mindestens eine Komponente (7) aufweist.