发明名称 |
一种互补栅控PNPN场效应晶体管及其制造方法 |
摘要 |
本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种互补栅控PNPN场效应晶体管及其制备方法。该晶体管由源极为窄禁带宽度的凹陷沟道的N型栅控PNPN场效应晶体管和P型栅控PNPN场效应晶体管组成。所述晶体管的凹陷沟道使其漏电流得到了抑制,同时,该晶体管采用了窄禁带宽度材料,其驱动电流也得到了提升。本发明还公开了上述晶体管的制造方法。本发明所提出的晶体管具有低漏电流、高驱动电流、低功耗、集成度高等优点。 |
申请公布号 |
CN101814503A |
申请公布日期 |
2010.08.25 |
申请号 |
CN201010141734.3 |
申请日期 |
2010.04.08 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
王鹏飞;臧松干;张卫 |
分类号 |
H01L27/092(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/12(2006.01)I;H01L21/8238(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/092(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种互补栅控PNPN场效应晶体管,其特征在于,该晶体管包括一个半导体衬底、在所述半导体衬底上形成的一个源极为窄禁带宽度的N型栅控PNPN场效应晶体管和一个源极为窄禁带宽度的P型栅控PNPN场效应晶体管。 |
地址 |
200433 上海市邯郸路220号 |