发明名称 一种互补栅控PNPN场效应晶体管及其制造方法
摘要 本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种互补栅控PNPN场效应晶体管及其制备方法。该晶体管由源极为窄禁带宽度的凹陷沟道的N型栅控PNPN场效应晶体管和P型栅控PNPN场效应晶体管组成。所述晶体管的凹陷沟道使其漏电流得到了抑制,同时,该晶体管采用了窄禁带宽度材料,其驱动电流也得到了提升。本发明还公开了上述晶体管的制造方法。本发明所提出的晶体管具有低漏电流、高驱动电流、低功耗、集成度高等优点。
申请公布号 CN101814503A 申请公布日期 2010.08.25
申请号 CN201010141734.3 申请日期 2010.04.08
申请人 复旦大学 发明人 王鹏飞;臧松干;张卫
分类号 H01L27/092(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/12(2006.01)I;H01L21/8238(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L27/092(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种互补栅控PNPN场效应晶体管,其特征在于,该晶体管包括一个半导体衬底、在所述半导体衬底上形成的一个源极为窄禁带宽度的N型栅控PNPN场效应晶体管和一个源极为窄禁带宽度的P型栅控PNPN场效应晶体管。
地址 200433 上海市邯郸路220号