发明名称 投影物镜倍率误差及畸变的检测装置及方法
摘要 本发明提供一种投影物镜倍率及畸变的检测装置以及方法,首先制备一具有栅格状透光标记的测量掩模版,同时提供镀铬面上涂覆正性光刻胶且没有图形的掩模版作为一转印掩模版,利用物像交换曝光的方法以及涂胶显影、刻蚀、套刻测量等相关设备,测量固定在检测装置中的投影物镜倍率误差及畸变;采用本发明的投影物镜倍率及畸变的检测装置以及方法测量投影物镜的倍率误差和畸变,可排除标准栅格模版等传统测量手段带来的系统误差,特别适于包含有测量名义倍率为-1或相近倍率的投影物镜的检测装置系统。
申请公布号 CN101387833B 申请公布日期 2010.08.25
申请号 CN200810202413.2 申请日期 2008.11.07
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 杨志勇
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种投影物镜倍率及畸变的检测装置,其特征在于:包括框架单元,用于将待测投影物镜固定到所述框架单元的投影物镜固定单元,承片单元,承版单元,用于提供曝光光源的照明单元,以及一片测量掩模版和一片转印掩模版,所述转印掩模版一面镀铬且无任何标记图形,镀铬面涂覆有正性光刻胶。
地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
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