| 发明名称 | 基板处理装置以及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。 | ||
| 申请公布号 | CN101045232B | 申请公布日期 | 2010.08.25 |
| 申请号 | CN200710093622.3 | 申请日期 | 2007.03.30 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社;索尼株式会社 | 发明人 | 平冈伸康;奥村刚;仲野彰义;宇贺神肇 |
| 分类号 | B08B1/00(2006.01)I;B08B1/04(2006.01)I;B08B7/04(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)N;H01L21/30(2006.01)N;H01L21/306(2006.01)N;H01L21/67(2006.01)N;H01L21/304(2006.01)N;G11B7/26(2006.01)N | 主分类号 | B08B1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 王玉双 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||