发明名称 垂直在SOI结构衬底上的ZnO纳米结构及其制备方法
摘要 本发明涉及一种垂直在SOI结构衬底上的ZnO(氧化锌)纳米结构及其制备方法。本发明垂直在SOI结构衬底上的ZnO纳米结构是在SOI结构衬底表面垂直生长有呈六边形结构的ZnO纳米盘,ZnO纳米盘均是六方纤锌矿结构的单晶,其为厚度相对于对角线长度小得多的超薄结构,其厚度和对角线长度分别介于10~20nm和0.8~3μm,因此具有超薄的形貌特征。本发明纳米盘的制备采用化学气相沉积方法,所用设备简单,易于操作;对载气要求不高,只需要氩气就可以,不需要加氧气(利用瓷管内残余氧气来同蒸发的锌蒸气进行反应生成氧化锌)等另外的气体;并且不需要使用金属催化剂,能保证较高的晶体质量。
申请公布号 CN101127380B 申请公布日期 2010.08.25
申请号 CN200710028474.7 申请日期 2007.06.07
申请人 中山大学 发明人 李宝军;陈钰杰;余丁山
分类号 H01L33/00(2006.01)I;H01L31/0392(2006.01)I;H01L31/0296(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L21/365(2006.01)I;C30B29/66(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 林丽明
主权项 一种垂直在SOI结构衬底上的ZnO纳米结构,其特征在于在SOI结构衬底表面垂直生长有呈六边形结构的ZnO纳米盘。
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