发明名称 一种深地坑结构
摘要 本实用新型公开了一种深地坑结构,其构成包括垫层(6),垫层(6)上设有底梁,底梁上对称设有扶壁柱(3);在底梁上方设有底板(2),在扶壁柱(3)内侧设有壁板(1)。采用本实用新型,其底板和壁板都不用做的如传统结构那么厚,可节约用料。由于扶壁柱与底梁的两端是一次浇铸成一体的,因此扶壁柱的基础不用做的很大就有足够的抗挤压能力。本实用新型还具有设计计算简单,施工方便,工期短,并且抗侧土压力大的特点。
申请公布号 CN201560435U 申请公布日期 2010.08.25
申请号 CN200920291691.X 申请日期 2009.12.10
申请人 贵阳铝镁设计研究院 发明人 翁周;杨华
分类号 E02D29/045(2006.01)I 主分类号 E02D29/045(2006.01)I
代理机构 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人 刘楠
主权项 一种深地坑结构,其特征在于:构成包括垫层(6),垫层(6)上设有底梁,底梁上对称设有扶壁柱(3);在底梁上方设有底板(2),在扶壁柱(3)内侧设有壁板(1)。
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