| 摘要 |
L~invention concerne un procédé de nettoyage de la surface d~un matériau (4) enduit d~une substance organique, caractérisé en ce qu~il comprend les étapes consistant à : introduire ledit matériau (4) dans une enceinte de traitement (2) à l~intérieur de laquelle règne une pression comprise entre 10 mbar et 1 bar, et qui est alimentée par un flux gazeux comprenant au mois 90 0% en volume d~oxygène, générer un plasma en faisant passer une décharge électrique entre la surface dudit matériau et une électrode recouverte de diélectrique (5a, 5b, 5c, 5d, 5e, 5f, 5g), afin de décomposer ladite substance organique sous l~action des radicaux libres O ainsi produits, ainsi qu~une installation (1) pour la mise en oeuvre de ce procédé
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