奈米金属粉体之制造方法;A METHOD OF PRODUCING NANO-METAL POWDER

摘要

本发明提供一种奈米金属粉体之制造方法，其利用微影制程技术，形成奈米图案光罩，并蚀刻金属薄膜，以形成与该光罩奈米图案对应之奈米图案，从而获得奈米金属粉体。本发明所提供之奈米金属粉体之制造方法利用可形成奈米图案之微影制程技术，故能获得尺寸均一可控且分散性好之奈米金属粉体，适合于制造铜、铝、镍等金属粉体。

主权项

1.一种奈米金属粉体之制造方法，其包括以下步骤：提供一基底；于基底上沈积一层金属薄膜；于金属薄膜上涂布一光阻层，并通过一具奈米级尺寸之奈米图案之光罩对光阻层进行曝光处理；蚀刻金属薄膜，得到与奈米图案对应之图案；去除基底及其他残留物，即得金属粉体。 ;2.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述基底材质选自Si、SiO2、GaAs、GaP或InP。 ;3.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述金属薄膜包括铜、铝、镍等金属。 ;4.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述金属薄膜之厚度为1奈米～100奈米。 ;5.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述光阻层材质选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯或聚碳酸酯等。 ;6.如申请专利范围第5项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述奈米图案之尺寸为1奈米～100奈米。 ;7.如申请专利范围第6项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述金属粉体粒径为1奈米～100奈米。 ;8.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中蚀刻金属薄膜采用化学反应性蚀刻液。 ;9.如申请专利范围第1项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述去除基底之方法系采用蚀刻法。 ;10.如申请专利范围第9项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中所述蚀刻法采用氢氧化钾、氢氧化钠或其他强硷性氢氧化物等蚀刻液。 ;11.如申请专利范围第1至10任一项所述奈米金属粉体之制造方法，其中所述曝光处理采用X光或紫外光。 ;12.如申请专利范围第8项所述之奈米金属粉体之制造方法，其中，该化学反应性蚀刻液为三氯化铁溶液。;第一图至第六图系本发明之奈米金属粉体之制造方法流程图。