发明名称 |
真空溅镀磁力源之磁石固定结构 |
摘要 |
本创作系有关于一种真空溅镀磁力源之磁石固定结构,其主要系于溅镀靶座内对应嵌入有供产生溅镀制程的磁石,且以不会影响磁力线运作之材质的定位片,来对应将磁石固定于溅镀靶座内者;藉此,让磁石除了可达到稳固的定位之外,亦可达到便利拆卸更换的优点,同时,不会影响磁力线运作进行真空溅镀制程者。 |
申请公布号 |
TWM387107 |
申请公布日期 |
2010.08.21 |
申请号 |
TW099205227 |
申请日期 |
2010.03.25 |
申请人 |
万润科技股份有限公司 ALL RING TECH CO., LTD. 高雄县路竹乡路科十路1号 |
发明人 |
欧承恩 |
分类号 |
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主分类号 |
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代理机构 |
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代理人 |
陈金铃 台南市安平区建平五街122号 |
主权项 |
1.一种真空溅镀磁力源之磁石固定结构,其主要系利用溅镀靶座内之磁石溅镀沈积材料至一基材上,其中:该溅镀靶座内系分隔有诸多置设磁石的容置空间,于容置空间之周边设有固定孔,其磁石系以一不影响磁力线运作之材质的定位片,来固定于容置空间处的固定孔者。;第一图:本创作之立体分解示意图;第二图:本创作之俯视示意图;第三图:本创作之剖视示意图;第四图:本创作之整体剖视示意图 |
地址 |
ALL RING TECH CO., LTD. 高雄县路竹乡路科十路1号 |