发明名称 电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法;MANUFACTURE METHOD OF ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE LAYER FOR THE PLASMA DISPLAY PANEL
摘要 本发明特点为电浆显示器之电磁波阻隔层制作,此电磁波阻隔层之制作方法是利用微热压、涂布及电镀等整合技术,制作一层内建于塑胶材料内具有电磁波阻隔之金属层,此金属层之几何图案口径比为75%以上。
申请公布号 TWI329334 申请公布日期 2010.08.21
申请号 TW094142404 申请日期 2005.12.02
申请人 国防部军备局中山科学研究院 CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS BUREAU, M.N.D. 桃园县龙潭乡中正路佳安段481号 发明人 左清宇;施修正;吴宪明;许文荣;郑文锋
分类号 主分类号
代理机构 代理人 蔡秀玫 台北县土城市金城路2段211号4楼A1室
主权项 1.一种制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层结构制作方法,其包含:微热压一塑胶基板,形成一几何沟槽;涂布一导电金属层于该几何沟槽内;以及电镀一金属层于该金属导电层之上方,该金属层位于该几何沟槽内。 ;2.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中所述之金属层为内建于塑胶材料内。 ;3.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中所述之塑胶材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、对苯二甲酸酯乙二酯、聚乙烯、聚甲基苯乙烯酯及三醋酸纤维素等。 ;4.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该几何沟槽为一网状沟槽,其沟宽在6~50微米之间,沟距在150~500微米之间。 ;5.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该导电金属层包括铜、银、镍、金、锡、铂、钯、铱、钴、锌及这些金属的合金及所属金属胶之混合粒子。 ;6.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该导电金属层包括环氧压克力胶、矽胶、丙烯酸氨甲酸酯、聚丙烯酸醚酯、聚亚醯胺胶及这些胶之混合物。 ;7.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该金属层包括铜、银、镍、金、锡、铂、钯、铱、钴、锌及这些金属的合金。 ;8.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该金属层之厚度为1~15微米。 ;9.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其更包括一步骤:黑化该金属层之表面,形成一黑化层,其中黑化该金属层之表面系双面黑化处理。 ;10.如申请专利范围第1项所述之制作凹槽微细结构之电浆显示器之电磁波阻隔层制作方法,其中该电磁波阻隔层除应用在电浆显示器外,尚包括需要装置于显示器前方表面阻隔电磁波辐射之液晶显示器、阴极映像管显示器、场放射显示器及表面传导电子放射显示器。;图一 利用微热压、涂布及电镀等技术,制作一层内建于塑胶材料内具有电磁波阻隔之金属层。(A)微热压、(B)涂布、(C)电镀及(D)黑化。;图二 内建线宽12微米线距290微米之金属阻隔层成品。
地址 CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS BUREAU, M.N.D. 桃园县龙潭乡中正路佳安段481号